DNP注资Rapidus，助力推进2纳米半导体量产体系建设
此次合作将推动极紫外光刻光掩模的研发与批量制造。
大日本印刷株式会社（DNP，东京证券交易所代码：7912）近日宣布，已参与Rapidus Corporation的最新一轮融资。作为战略投资者，DNP将为Rapidus提供资金支持，协助其从当前研发阶段平稳过渡至2027年实现2纳米逻辑半导体量产的既定目标。
借助此次投资，DNP计划加快极紫外光刻光掩模的开发与量产进程，为Rapidus建设2纳米及更先进制程的半导体制造体系提供关键支持。
行业背景
随着数据量的激增，能耗问题日益凸显。市场对能够提升运算效率、同时降低功耗的下一代半导体产品需求持续攀升。
相比传统工艺，极紫外光刻（EUV）技术能够在硅晶圆上实现更精细的电路图案化，从而大幅提升芯片的性能与能效比。这使得EUV技术成为未来半导体制造的关键路径。
2024年，DNP在日本新能源产业技术综合开发机构（NEDO）主导的“后5G信息通信基础设施强化研发项目”中，被选为Rapidus的子承包商。在此合作框架下，DNP正持续推进用于2纳米制程的EUV光掩模制造工艺的研发。
战略推进
为协助Rapidus在2027年实现2纳米逻辑半导体的量产目标，DNP正致力于早日实现该工艺节点下EUV光掩模的高良率与高效生产。此次注资将进一步强化DNP与Rapidus之间的协同合作关系。
长期愿景
DNP已将EUV光掩模作为其半导体业务的核心增长引擎。公司将持续加大资源投入，推进技术迭代，目标包括实现1.4纳米及以下先进工艺节点的技术突破。通过上述努力，DNP将为日本半导体产业的整体发展贡献力量。
关于DNP
成立于1876年的大日本印刷公司，是全球领先的印刷及技术解决方案提供商。公司以印刷技术为基础，不断拓展新兴商业领域，同时重视环境保护，致力于建设更加可持续的社会。DNP凭借其在微细加工与精密涂布方面的核心技术，广泛服务于显示设备、电子组件及光学薄膜市场。
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