SK海力士携手东进半导体推进EUV光刻胶研发
韩国媒体近日透露，SK海力士正与东进世美肯（Dongjin Semichem）展开合作，共同研发高性能EUV光刻胶。此举旨在推动这一关键半导体材料的本土化生产，减少对日本供应商的依赖。
知情人士指出，SK海力士对材料性能提出了更高要求，特别是在光刻胶的光敏性（Sensitivity）方面，希望通过优化该参数提升芯片制造过程中的工艺效率。
尽管SK海力士未正式回应相关细节，但公司方面确认正在与多家材料供应商合作，持续推动相关技术改进。其表示，具体的研发内容属于商业机密，不便公开。
资料显示，SK海力士曾在2023年借助旗下子公司SK Materials Performance完成部分EUV光刻胶的国产化，但产品主要集中在低规格应用领域。