璞璘科技推出国内首台光芯片领域纳米压印光刻设备

璞璘科技推出国内首台光芯片领域纳米压印光刻设备

璞璘科技近日宣布，其与深圳力策科技有限公司联合开发的真空气压式纳米压印技术已实现8英寸光芯片的量产突破。该成果依托璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备，结合定制化的双层压印胶材料体系及核心工艺流程，成功绕过了传统的深紫外（DUV）光刻路径。

通过这一创新方案，8英寸光芯片晶圆实现了可规模化生产，同时大幅降低了制造成本，据称其成本仅为传统DUV光刻方案的十分之一。这一进展标志着国产光芯片制造在工艺路径和成本控制方面迈出了关键一步。

此前，璞璘科技已于2025年8月交付了中国首台半导体级步进式纳米压印光刻系统PL-SR。该系统采用喷墨步进式工艺，主要面向先进集成电路和硅基微显示等领域的工艺开发。

此次推出的PL-AS设备则属于半导体级真空气压式纳米压印光刻机，采用面接触压印原理，专为晶圆级全幅面量产设计。该设备在大面积微纳结构复制方面表现出色，具备直接替代产线中DUV光刻机的能力，是面向光芯片量产的成熟装备。