中国科研团队成功研发万通道3D纳米激光直写光刻机
浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室于4月10日在杭州召开成果发布会，宣布研发出一款具备万通道能力的3D纳米激光直写光刻设备。该技术突破有望在超分辨光刻、光子集成电路制造及高端掩模版加工等领域发挥重要作用。
为了解决传统单通道系统在制造效率方面的瓶颈，研究团队引入了先进的光场调控机制，使设备能够同时操控上万个独立的激光焦点。每个焦点的输出能量均可进行169阶以上的精细调整，从而实现对多个加工通道的独立控制。
在加工策略方面，团队开发了自适应匀化算法，并引入了并行条带扫描与并行灰度体曝光等关键技术。这些创新手段共同提升了设备的综合性能，使其在加工精度上达到亚30纳米水平，单分钟加工面积可达42.7平方毫米，且支持最大12英寸硅片的刻写作业。
该设备的推出为大面积微纳结构的高通量、高精度制造提供了新的解决方案，标志着我国在高端光刻装备研发领域迈出了关键一步。