会议邀请|复纳科技邀您共赴第十一届中国原子层沉积会议


Phenom Scientific


第十一届中国原子层沉积会议将于 2025 年11 月 14-16 日在广州举办。原子层沉积(ALD)技术作为一种面向纳米和亚纳米薄膜以及纳米颗粒的制备技术,具有精确的原子层级厚度调控能力、极好的共形生长特性、近乎化学计量比的化学组成,以及较低的生长温度,现已被广泛应用于微电子、光电子、催化、能源、光学涂层、抗腐蚀层生物医用材料等多个领域。本次会议将共同探讨 ALD 技术的最新研究成果、应用进展与发展趋势,促进产学研深度融合与共同发展。

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复纳科学仪器(上海)有限公司(以下简称“复纳科技”)受邀参加此次会议,展示我们最新的原子层沉积技术——Sparknano 空间原子层沉积、Atlant 3D 直接原子层打印以及 Forge Nano 粉末原子层沉积技术,欢迎各位莅临【三楼A0】和【四楼L5】复纳科技展台测试体验和交流,共同探讨最新原子层沉积技术!



会议时间

2025 年 11 月 14-16 日

会议地点

广州天河希尔顿酒店(广州市林和西横路215号)


复纳科技展位号


三楼A0(15日上午)


四楼L5 (15日下午—16日全天)


现场还有两场精彩报告等您来听!


日期:

2025年11月15日

地点:

M5厅

时间

报告主题

报告人

14:25-14:50

低温空间原子层沉积氟化锂薄膜及其在锂离子电池中的应用

许逸涵

17:15-17:40

直写打印ALD沉积系统及其应用

庄思濛


PART.01

SparkNano 空间原子层沉积


SparkNano 提供业界领先的空间原子层沉积 (ALD) 系统,将卓越的薄膜质量、极快的沉积速度和无与伦比的灵活性融为一体。这些先进的系统旨在支持各种空间 ALD 工艺并适应各种基底类型,使其成为研发、工艺开发、产品开发乃至中试线生产的理想解决方案。



空间ald原理示意图



  • 基材类型:平面和多孔基材,包括晶圆、玻璃、金属和聚合物箔

  • 高速处理:沉积速度比传统 ALD 快 100 倍

  • 大尺寸基片:高达 420mm × 325mm 基底,可根据需求定制尺寸

  • 等离子体增强技术的高灵活性:可在对温度敏感的材料(如聚合物)上沉积薄膜

  • 前驱体利用率提升与成本降低:最大化前驱体利用率,并结合未反应前驱体的回收能力



空间ALD实现的卓越保形性、均匀性与精确生长控制


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PART.02

Atlant 3D 直接原子层打印


ATLANT 3D 推出了直接原子层打印(Direct Atomic Layer Processing,DALP®)技术 —— 全球首个能实现原子级精度、无掩模直接写入、多材料原位加工的平台。


基于专利微喷嘴系统的原子级加工平台,可实现选择性沉积、蚀刻、掺杂与表面改性,并以软件方式实现高精度实时控制。与传统 ALD “全表面沉积 + 光刻 + 蚀刻”的流程不同,DALP® 让材料只在需要的位置沉积,真正实现“按需制造”。其能力正在加速半导体、MEMS、光子学、量子计算和航天制造等领域的创新。





  • 无需掩膜,单步工艺即可逐个原子构建多层结构

  • 原子级精准操控,实现 0.3nm 级的精确梯度

  • 兼容数百种材料,包括金属、半导体与氧化物

  • 复杂形貌掌控,在 90°直角及深腔等难处理表面获得均匀镀层

  • 快速原型制作,迭代周期极短

  • 无需洁净室,废料减少 90%,运营成本更低




使用Atlant 3D DALP 系统在复杂结构上沉积均匀保形涂层



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PART.03

Forge Nano 粉末原子层沉积系统


Forge Nano 采用粉末原子层沉积技术(ALD),可提供从包覆研发到工业生产的全套解决方案,包括:流化床技术、旋转床、振动床等。实现从毫克到吨级的粉末处理量,您可以轻松实现从实验室到生产的产品开发计划,广泛应用于锂电、催化、金属、制药等。



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咨询热线:400 857 8882



复纳科技成立于 2012 年,专注引进欧美先进、稳定的科学分析仪器与制造设备,助力中国科研创新与工业升级。公司已服务 2,500+ 家中国用户,并与 10 余家国际知名制造商建立了长期稳定的合作关系,共同为中国用户提供高品质产品与专业服务。主要业务线如下:


  1. 复纳显微成像:荷兰 Phenom 台式扫描电镜、比利时 NEOSCAN 高分辨台式显微 CT、匈牙利 Technoorg Linda 离子研磨仪

  2. 复纳清洁度检测:荷兰 Phenom ParticleX 清洁度检测系统(锂电、汽车、光学模组、钢铁夹杂物);荷兰 Fastmicro 可视化颗粒检测系统

  3. 复纳微纳制造:Forge Nano 粉末原子层沉积系统、荷兰 VSParticle 纳米气溶胶沉积系统、丹麦 Atlant 3D 直接原子层打印系统、荷兰 Sparknano 空间原子层沉积系统、Tera print桌面式无掩膜蘸笔光刻/打印系统

  4. 透射电镜原位分析:荷兰 DENSsolutions 原位透射样品杆、匈牙利 Technoorg Linda TEM 氩离子精修仪

  5. 复纳半导体:荷兰 LabSEMI 半导体软管系

  6. 复纳生命科学:匈牙利 Femtonics 双光子显微镜


复纳科学仪器(上海)有限公司

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