芯上微装自主研发350nm步进光刻机通过验收，即将交付客户
上海芯上微装科技股份有限公司（AMIES）于11月25日宣布，其自主研发的首台350nm步进光刻机AST6200已完成全部出厂调试及验收流程，并正式启程发往客户现场。这一进展标志着我国在高端半导体光刻设备领域取得新的突破，国产半导体制造装备正加速迈向高端化与自主可控。
AST6200光刻机凝聚了芯上微装在光学系统设计、精密运动控制及半导体工艺理解方面的多年技术积累。作为一台高性能、高可靠性且完全自主可控的步进式光刻设备，该产品特别针对功率器件、射频芯片、光电子元件及Micro LED等先进制造需求而开发。
该设备具备350nm分辨率，正面套刻精度可达80nm，背面套刻精度为500nm，展现出优异的成像能力与工艺兼容性。此外，AST6200还具备高产能、强适应性以及软件系统100%自主可控等关键优势，为复杂工艺环境下的制造流程提供了强有力的支持。