8月10日，大族激光在互动平台表示，公司在研光刻机项目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等方面的应用，目前已接到少量订单。
此前，大族激光也在互动平台表示，公司在研光刻机项目主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用，尚未实现销售。
行业周知，高端芯片制造所需的光刻机一直以来被荷兰ASML公司垄断，一台精密光刻机售价上百亿，而我国半导体行业起步较晚，光刻机技术与ASML的差距非常大。
当前，我国光刻机市场环境中，除了合肥芯硕半导体公司也具备量产200nm光刻机的实力，无锡影幻半导体公司也具备200nm光刻机量产的实力，而上海微电子所生产的90nm光刻机已是目前国内最高技术的光刻机。
随着大族激光在研光刻机项目的有序推进，也为我国光刻机的研发向前推进提供了一点点助力。