第十六届中国国际 纳米技术产业博览会
2026年10月21-23日 苏州国际博览中心
中国国际纳米技术产业博览会（简称“纳博会”）自2010年举办首届以来，已连续在苏州工业园区成功举办15届，累计邀请169名国内外院士（其中诺奖得主3人）、177616位参展参会嘉宾、8250多家参展企业，论坛报告达3578场。CHInano 2026将于2026年10月21-23日再度启航，为全球产业界搭建洞察趋势、汇聚资源、驱动合作的核心平台。
展商推荐
展位号：312&313
北京光引聚合科技有限公司
公司介绍
北京光引聚合科技有限公司专注于高性能电子封装材料领域，主营业务涵盖苯并环丁烯(BCB)光刻胶及配套衍生产品的研发、生产与销售。作为国内首家具备BCB光刻胶全产业链吨级量产能力的企业，公司打破国外技术封锁，破解“卡脖子”难题，实现了低介电电子封装树脂的国产自主可控，产品广泛应用于半导体、航空航天、人工智能等高端制造领域。
产品介绍
BCB（苯并环丁烯）光刻胶
表面粘附力促进剂NF-3000
用途：提高BCB与基底之间的粘附性。特性：增强BCB与基底（如硅、玻璃、InP、InGaAs等）之间的粘附力，防止发生剥离或产生界面缺陷。
电子封装BCB树脂PB-35/46
用途：用于非光敏图形化工艺，需通过光刻胶掩膜+干法刻蚀（如ICP、RIE）实现图形转移。主要用于晶圆级键合、MEMS封装、微结构隔离层、高频器件介电层等。特性：介电常数低，平坦度高，热稳定性和化学稳定性高。
负性光敏型电子树脂PB-NT-35/40
用途：自身具备光敏性（负性），曝光后交联固化，未曝光区域可显影去除，无需干法刻蚀。适用于微图形化布线层、封装再布线层（RDL）、光波导结构等。特性：介电常数低，工艺步骤少，图形精度高，适合多层布线。
BCB树脂清洗剂QX-1100
用途：清除BCB边缘残留，防止污染。特性：清除BCB旋涂后边缘残留或溢出胶层，防止污染键合机台或后续工艺区域。用于非光敏BCB光刻或键合前的清边处理，尤其适用于晶圆级封装工艺。
负性树脂专用显影液XY-D1353
用途：负性BCB树脂在曝光后发生交联，形成难溶的固化结构；未曝光区域则保持可溶性，显影液将其选择性溶解去除，从而实现图形转移。特性：对未曝光BCB具有高溶解度，对曝光区域几乎不溶，确保高对比度图形。
公司荣誉
一、国际级荣誉
HiCool2024全球创业大赛
二等奖（国际创新创业领域）
第八届中关村国际前沿科技大赛
TOP10（国际前沿科技领域）
二、国家级荣誉
第六届全国光子和集成电路“创业之芯”大赛
一等奖（全国半导体与集成电路）
2024“创业之芯”年度榜单
TOP30称号（全国创新创业标杆领域）
三、省/市级荣誉
北京“燕山杯”新材料创新大赛
金奖（北京市级新材料领域）
“创客北京2025”创新创业大赛
总决赛创业组二等奖
2025年第十六届阳澄湖创客大赛
数字经济行业赛北京专场
一等奖&总决赛二等奖
联系方式
邮箱：705500574@qq.com
网址：https://www.gyjhbcb.com
往届回顾
第十五届中国国际纳米技术产业博览会举办1场主报告、15场分论坛，分享前沿报告605场，同比增长约26%，以及1场创新创业大赛、3场供需对接会，汇聚了150余位国家级人才，500余位国内外高校院所、企业机构的顶级专家。展区面积25000㎡，吸引全球350余家顶尖企业与机构参展，展示全球纳米技术领域最新技术产品和创新应用2400多件。本届大会累计到场参与总人次近2.75万人次，大会规模创下历史之最，影响力攀升至新高度。
目前，纳博会已成为全球规模最大的纳米技术应用产业领域国际性展会，与日本、韩国、德国、俄罗斯等建立了常态化交流机制。每年，超300家纳米技术产业头部企业选择纳博会，这里不仅是前沿技术的展示窗口，更是企业实现资源聚合、产业协同、未来布局的战略高地。
第16届纳博会
2026年10月21-23日
苏州国际博览中心
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已参展部分企业/单位
截止到2026年6月1日
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大赛组：
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