SEMICON现场报道:富睿思展示AFM-WLI联用设备,AI驱动下一代原子力显微镜升级

2026-04-03 21:40:38
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摘要 富睿思在 SEMICONChina2026带来多款产品,展示了AFM与WLI联用方案,实现跨尺度测量。平台支持原位同步测试,融合AI提升稳定性,布局先进封装技术,旨在加速国产化进程。

SEMICON现场报道:富睿思展示AFM-WLI联用设备,AI驱动下一代原子力显微镜升级

在SEMICON China 2026展会现场,仪器信息网对富睿思(上海)精密仪器有限公司仪器应用及售后服务部经理刘曜纶博士进行了专访。刘博士表示,本次展会中,公司重点展示了三款核心产品:AFM-Piccolo、AFM-Baritone与WLI-Marimba,覆盖了从原子力显微镜(AFM)到白光干涉轮廓仪(WLI)的全系列测量设备,支持从微米到纳米尺度的跨尺度检测。同时,公司还推出了一款创新性的联用设备AFM-WLI Duet,结合了WLI的宽域快速测量与AFM的高精度微区探测能力,能够在不重复定位样品的情况下完成原位测试。

在谈及先进制程中的挑战时,刘博士强调,混合键合技术对表面平整度、精度及清洁度提出了亚纳米级的严苛要求。传统光学检测手段难以识别纳米级缺陷,而电学测试又往往存在延迟。富睿思的AFM系统能够实现形貌与电学、力学性能的同步测量,帮助用户快速定位微区缺陷,从而为先进封装工艺的降本增效提供有力支持。

在AI技术融合方面,刘曜纶透露,公司正在将人工智能引入下一代AFM产品中。通过实时分析扫描图像,并结合自适应扫描策略,系统可在探针处于最佳状态时提升分辨率,在探针寿命接近末期时自动降低扫描速度,以此保障数据质量的一致性,显著缩短客户在良率提升阶段的周期与成本。

面对先进封装和化合物半导体快速发展的趋势,富睿思已从多个维度展开布局。例如,公司采用具备特殊涂层的探针和低接触力扫描模式,以减少对外延层或异质结结构的表面损伤,并延长探针使用寿命。同时,通过导电AFM或开尔文探针力显微术(KPFM)分析样品的局域电学特性,可以有效识别高缺陷密度区域。此外,富睿思还通过控温测试手段,观察材料在极端温度条件下的表面形貌与电学性能变化,为器件的可靠性评估提供数据支撑。

展望未来,刘博士指出,富睿思在中国市场的主要目标是在行业周期波动中持续优化设备性能,努力成为客户长期信赖的技术合作伙伴。他强调,在国产化设备加速推进的背景下,富睿思将发挥桥梁作用,推动高端精密测量设备的本地化进程。他也建议客户关注跨仪器、跨尺度的数据整合,而AFM-WLI Duet正是实现全面检测、促进工艺优化与良率提升的理想选择。

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