第十六届中国国际 纳米技术产业博览会
2026年10月21-23日
中国国际纳米技术产业博览会（简称“纳博会”）自2010年举办首届以来，已连续在苏州工业园区成功举办15届，累计邀请169名国内外院士（其中诺奖得主3人）、177616位参展参会嘉宾、8250多家参展企业，论坛报告达3578场。CHInano 2026将于2026年10月21-23日再度启航，为全球产业界搭建洞察趋势、汇聚资源、驱动合作的核心平台。
展商推荐
展位号：T23
杭州玉之泉精密仪器有限公司
公司介绍
杭州玉之泉精密仪器有限公司缘起浙江大学玉泉校区，致力于为客户提供光电领域的优质高端设备与整体解决方案。公司主营业务为飞秒激光直写光刻系统的研发销售以及相关微纳产品的加工服务，为客户提供相关的微纳加工解决方案。市场覆盖光通信领域、特种光纤传感、平面显示、高端防伪、超材料制备等多项领域。
产品介绍
双光子三维激光直写光刻机
真三维无掩膜光刻，可实现高自由度纳米级三维结构制造，最小特征尺寸可达50nm。为多个领域的研究发展提供先进的高精度、三维制造解决方案，应用领域包含但不限于微纳光学器件、微/纳流控芯片、片上光互联、微机械等。
公里级光纤光栅加工系统/硬脆体飞秒激光加工系统
专注于飞秒光纤光栅加工，兼具图形化加工能力。设备配备有公里级光纤自动收放加工装置，支持公里级光纤光栅加工。加工光栅种类覆盖市场所有主流类型光栅。 专注于飞秒激光在多种硬脆体材料中的高精度图形化加工。具备三维矢量路径全行程速度、能量实时调制加工能力。具备加工光斑整形能力，支持通过导入任意图形进行材料表面或内部的三维与二维加工。
紫外激光直写光刻系统
紫外激光直写设备主要用于无掩膜直接曝光转移微结构图案，以制备衍射光学元件、微机电系统。用于涂有光刻胶体的各种基板在（比如玻璃、硅片或其它平面材料）进行无掩膜直接曝光，将作为衍射光学元件、微机电系统加工平台设备。
公司荣誉
联系方式
邮箱：shenyuqing@yzqjm.com
往届回顾
第十五届中国国际纳米技术产业博览会举办1场主报告、15场分论坛，分享前沿报告605场，同比增长约26%，以及1场创新创业大赛、3场供需对接会，汇聚了150余位国家级人才，500余位国内外高校院所、企业机构的顶级专家。展区面积25000㎡，吸引全球350余家顶尖企业与机构参展，展示全球纳米技术领域最新技术产品和创新应用2400多件。本届大会累计到场参与总人次近2.75万人次，大会规模创下历史之最，影响力攀升至新高度。
目前，纳博会已成为全球规模最大的纳米技术应用产业领域国际性展会，与日本、韩国、德国、俄罗斯等建立了常态化交流机制。每年，超300家纳米技术产业头部企业选择纳博会，这里不仅是前沿技术的展示窗口，更是企业实现资源聚合、产业协同、未来布局的战略高地。
第16届纳博会
精准客群、国际专家、专业展会
扫码锁定CHInano 2026席位
2026年10月21-23日
苏州国际博览中心
黄金席位分秒递减
火速抢订中，错过等一年
展位预订、需求对接
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纳博会详情垂询组委会
会议组：
张女士 13862085570
中半协MEMS（微机电系统）分会：
张先生 15062459468
展览组：
陆先生 15050142680
大赛组：
张先生 13914056883
张先生 15796390461