ASML EUV光刻设备推动纳米孔全晶圆级制造

2025-12-24 20:04:16
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ASML EUV光刻设备推动纳米孔全晶圆级制造

根据海外媒体报道,IMEC(比利时微电子研究中心)已成功采用ASML最新一代极紫外光刻(EUV)系统,实现纳米孔在整片晶圆上的制造。ASML公关部门负责人表示,这一成果展示了其设备在生物医学领域中“令人惊讶且卓越”的应用潜力。

纳米孔是一种直径仅为几个纳米的微型通道,其工作原理基于分子与孔道之间的相互作用,因此在生物医学传感领域具有重要价值。通过该技术制造的纳米孔,能够实现对单个分子的检测与识别,并且通过调整孔径尺寸,可进一步扩展其功能和适用场景。

传统纳米孔制备方式存在一定的局限性,包括精度不足与可重复性差等问题。此次IMCE与ASML合作所取得的技术进展,不仅实现了纳米孔的大规模量产,同时显著提升了制造精度与一致性,有望成为推动纳米孔传感器从实验室迈向实际应用的关键突破。

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