日本DNP推出1.4nm级纳米压印图案化模板
12月9日，日本大日本印刷公司（DNP）宣布，其研发团队成功开发出线宽仅10nm的纳米压印光刻（NIL）图案化模板。这项技术能够支持1.4nm级别逻辑芯片及NAND闪存的制造工艺。
作为在NIL领域深耕超过20年的企业，DNP凭借深厚的光掩模与晶圆制造工艺积累，打造了新一代高性能模板。该产品采用SADP（自对准双重图案化）工艺中的“套刻”方法，通过在初始图案基础上进行薄膜沉积与刻蚀处理，使线条密度实现翻倍。
据该公司介绍，与传统光刻技术相比，其新开发的NIL工艺能耗仅为曝光步骤的十分之一。当前，DNP正与多家半导体制造企业展开深入合作，评估技术应用潜力，并计划在2027年实现量产。