Hakuto 伯东企业
伯东公司成立于1953 年,全球范围内有一千七百名员工。伯东企业(上海)有限公司 主要从事半导体设备、电子零部件加工、销售及相关服务工作,集团年营业额约为100亿人民币。伯东公司在国内主要城市:北京、苏州、广州、深圳、成都及厦门设有营业据点。上海伯东真空产品事业部秉承为广大中国客户提供世界一流的真空产品、推动中国真空工艺发展、承担企业社会责任为经营理念,已累计为超过10,000家企业提供真空服务,覆盖工业、半导体、镀膜、科研和分析行业。代理品牌德国Pfeiffer 全系列真空产品、美国 KRI 离子源、美国Polycold 制冷机,美国HVA 真空阀门,美国 inTEST(Temptronic)高速温度循环测试机,IBE 离子蚀刻机,真空镀膜系统及配套真空零配件等。上海伯东作为国际知名真空品牌指定授权代理商,全权负责在中国地区的销售和维修服务,100% 使用原厂进口零部件以及国外受训维修工程师;拥有完全的拆解,维修,校正能力并提供24小时在线服务。
  • Hakuto 伯东 10 IBE IBE 离子束刻蚀机

    产地:日本
    刻蚀均匀性:≤±5% (4”Ф硅片)
    刻蚀率:20 nm/min
    基板尺寸:φ4 X 1wfr
    工作温度:<100 ℃
    样品台冷却方式:直接冷却(水冷)
    样品台旋转角度:0-90 度
    泵组配置:德国 Pfeiffer 分子泵和旋片泵
    离子源配置:美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 (4cm/8cm/10cm/16cm)
    终点检出器:Pfeiffer 残余质谱仪
    适用气体:氩气 (Ar)
  • Hakuto 伯东 20 IBE-C IBE 离子束刻蚀机

    刻蚀均匀性:≤±5%
    刻蚀率:20 nm/min
    基板尺寸:< φ3 inch X 8片, < φ4 inch X 6片, < φ8 inch X 1片
    工作温度:<100°C
    旋转角度:0-90度
    样品台冷却方式:直接冷却 / 间接冷却
    真空泵配置:德国 Pfeiffer 分子泵和旋片泵
    离子源均匀性:±10% (for 8”Ф硅片)
  • Hakuto 伯东 20 IBE-J IBE 离子束刻蚀机

    传输机构:Dry Chuck Planet (公转自转)
    刻蚀均匀性:≤±5%
    刻蚀精度:纳米级别
    基片尺寸:Φ4 inch X 12片, φ5 inch X 10片, φ6 inch X 8片
    样品台冷却方式:直接冷却
    泵组配置:德国 Pfeiffer 分子泵和旋片泵
    离子源尺寸:Φ20cm
    离子源类型:水冷考夫曼离子源

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