ULVAC-PHI 光电子能谱仪 GENESIS 500 表面分析

产品概述

上海伯东代理的ULVAC-PHI全自动化多功能扫描微聚焦X射线光电子能谱仪PHI GENESIS 500，是一款专为表面分析设计的高端仪器。该设备基于X射线光电子能谱（XPS/ESCA）原理，利用X射线入射样品表面探测出射光电子，获取表面元素组成及化学态信息。结合微聚焦扫描技术，可实现微米级空间分辨能力，为电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物及陶瓷等固体材料及器件领域提供全面的表面分析解决方案。

核心特点/优势

• 兼顾常规高通量测试与微区高性能测试，满足多样化分析需求
• 配备聚焦X射线源、高灵敏度探测器、高性能氩离子枪及高效双束中和系统，实现全自动高精度深度剖析
• 支持在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析，大幅提升分析效率与数据一致性
• 易操作式多功能选配附件与全自动样品传送停放系统，显著提升实验室自动化水平与操作便捷性
• 低束流（300pA）下即可快速获取AES化学成像，特别适用于电子束辐照敏感材料（如LiPON等）的分析

应用领域

• 电池（全固态电池、Li基材料截面分析）
• 半导体与微电子器件
• 光伏与新能源材料
• 催化剂、纳米颗粒、金属材料、聚合物及陶瓷
• 材料科学、能源科学研究
• 表面处理与表面异常检测

选型指南/使用建议

根据实际分析需求（高通量常规测试或微区高分辨测试）灵活选配附件。针对电子束或离子束敏感样品，建议采用低束流模式并配合高效双束中和系统以避免电荷积累。设备支持全自动深度剖析，建议提前规划溅射刻蚀坑位置与多点分析路径以优化测试流程。具体配置、价格及货期需根据实际合同确定，图片仅供参考。